トップ > 異種機能集積研究コア
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石原 昇 教授(特任)〔伊藤研〕 | ||
居室: J2棟 | Mail-Box: J2-31 | ||
TEL: 045-924-5056 | |||
E-mail: ishihara.n.aa(at)m.titech.ac.jp ※(at)を@に置き換えて下さい |
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HomePage: http://www.ateal.first.iir.titech.ac.jp/ |
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大場 隆之 教授(特任)〔伊藤研〕 | |
居室: J3棟 | Mail-Box: J3-132 | |
TEL: 045-924-5866 | ||
E-mail: ohba.t.ac(at)m.titech.ac.jp ※(at)を@に置き換えて下さい |
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HomePage: http://www.wow.pi.titech.ac.jp/ |
・バンプを使わないウエハ間の垂直配線技術の開発
・WOWプロセスの開発
・血小板産生デバイスの開発
・デバイスのホットスポット熱平滑化冷却の開発
・閉鎖型植物育成環境となる植物工場の開発
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DRAMデバイス層の1/3の厚さまで薄くされた300mmウエハの断面 | 薄化されたDRAMウエハ。4ミクロン以下になると光が透過されるのがよくわかる |
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道正 志郎 教授(特任)〔伊藤研〕 | |
居室: J2棟 | Mail-Box: J2-31 | |
TEL: 045-924-5019 | ||
E-mail: dosho.s.aa(at)m.titech.ac.jp ※(at)を@に置き換えて下さい |
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HomePage: http://www.ateal.first.iir.titech.ac.jp/ |
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中村 友二 教授 (特任)〔伊藤研〕 | |
居室: R2棟 | Mail-Box: R2-32 | |
TEL: 045-924-5895 | ||
E-mail: nakamura.t.bh(at)m.titech.ac.jp ※(at)を@に置き換えて下さい |
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HomePage: |
町田 克之 教授 (特任)〔伊藤研〕 | ||
居室:J2棟 | Mail-Box:J2-31 | |
TEL:045-924-5019 | ||
E-mail:machida.k.ad(at)m.titech.ac.jp ※(at)を@に置き換えて下さい |
CMOS-MEMS加速度センサのSEM写真と下部のLSIの写真
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依田 孝 教授(特任)〔大場研〕 | |
居室: R2棟 | Mail-Box: R2-32 | |
TEL: 045-924-5083 | ||
E-mail: yoda.t.ab(at)m.titech.ac.jp ※(at)を@に置き換えて下さい |
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HomePage: http://www.wow.pi.titech.ac.jp/ |
・DUV領域発光応用技術
・高効率放熱基板モジュール技術
・欠陥制御技術
・欠陥評価技術
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CHEN Kuan-Neng 教授(特任)〔伊藤研〕 | |
居室:J3棟 | Mail-Box:J3-132 | |
TEL:045-924-5866 | ||
E-mail: chen.k.af(at)m.titech.ac.jp ※(at)を@に置き換えて下さい |
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HomePage: |
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金 永奭 教授(特定)〔伊藤研〕 | |
居室: J3棟 | Mail-Box: J3-132 | |
TEL: 045-924-5866 | ||
E-mail: youngsuk.k.aa(at)m.titech.ac.jp ※(at)を@に置き換えて下さい |
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HomePage: http://www.wow.pi.titech.ac.jp/ |
・バンプを使わないウエハ間の垂直配線技術の開発
・薄化されたデバイスの欠陥発生機構およびデバイス特性の解析
血小板産生デバイス
極小冷却デバイス