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ニューフレアテクノロジー未来技術共同研究講座

	依田 孝　教授（特任）〔伊藤研／筒井研〕
	居室: J3-409	Mail-Box: J3-162
	TEL: 045-924 -5142
	E-mail: yoda.t.ab(at)m.titech.ac.jp ※(at)を@に置き換えて下さい
	HomePage:

• 研究分野 　電子ビーム描画装置，先端薄膜形成装置
• 研究目的・意義 　電子ビーム描画装置及び先端薄膜形成装置の性能向上に必要な技術開発
• 最近の研究課題
  

  ・高速電子ビーム描画装置技術
  ・描画データ高速転送技術
  ・薄膜中欠陥の電気的／物理的評価技術
  ・新規材料形成技術

薄膜中欠陥の電気的評価技術

SiCエピ膜成膜条件と表面構造シミュレーション（名大共同）

	小笠原 宗博　准教授（特任）〔伊藤研／筒井研〕
	居室: J3-409	Mail-Box: J3-162
	TEL: 045-924 -5142
	E-mail: ogasawara.m.aa(at)m.titech.ac.jp ※(at)を@に置き換えて下さい
	HomePage:

• 研究分野 　電子ビーム描画装置
• 研究目的・意義 　電子ビーム描画装置の性能向上に必要な技術開発
• 最近の研究課題
  ・高速電子ビーム描画装置技術
  ・描画データ高速転送技術

TID効果を模擬したモデルを用いたトランジスタ特性シミュレーション
ELTトランジスタ構造のTID耐性

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